█武漢大學科教管理與評價研究中心 陳立新 張琳 黃穎
第四部分 2022年日本發(fā)明專利統(tǒng)計分析報告
36 世界主要機構(gòu)的日本專利布局
36.43 LG化學公司的日本局專利狀況
2022年，LG化學公司獲得日本專利614項，比上一年增長了-10%，是獲得日本專利數(shù)量第43多的機構(gòu)。
相對來講，LG化學公司專利研發(fā)的優(yōu)勢領(lǐng)域是：有機高分子、化工、有機化學、光學與攝影、非金屬成型加工。其在這5個技術(shù)領(lǐng)域上的專利份額相對較高，為2.9%至1%。
表36.43-1 2022年LG化學公司主要技術(shù)領(lǐng)域的專利分布
技術(shù)領(lǐng)域
專利數(shù)量
占比（%）
1
有機高分子
255
2.9%
2
化工
109
1.3%
3
有機化學
72
1.1%
4
光學與攝影
140
1.1%
5
非金屬成型加工
91
1.0%
6
半導體元器件
72
1.0%
7
電池
61
0.8%
8
分離與混合加工
55
0.8%
9
半導體集成電路
12
0.5%
10
電氣元件與電路
90
0.5%
11
材料化學與納米
53
0.5%
12
顯示展示與聲學
28
0.5%
13
材料測試
17
0.2%
14
半導體制造
16
0.2%
15
紡織與印刷
17
0.2%
16
金屬成型加工
13
0.1%
17
光電測量與核物理
6
0.1%
18
計算機核心部件
2
0.1%
19
發(fā)電與輸變電
10
0.1%
20
制冷制熱與照明
8
0.1%
注：占比（%）指其在某領(lǐng)域上的專利數(shù)量占該領(lǐng)域的比例。
從絕對數(shù)量上來看，LG化學公司的重點技術(shù)領(lǐng)域是：有機高分子、光學與攝影、化工、非金屬成型加工、電氣元件與電路。其在這5個技術(shù)領(lǐng)域上的專利數(shù)量最多，為255至90項。
可見，LG化學公司的專利技術(shù)研發(fā)重點主要集中在有機高分子領(lǐng)域。
圖36.43-1 2022年LG化學公司在20個相對優(yōu)勢領(lǐng)域中的專利占比
致謝
感謝大連理工大學劉則淵教授、河南師范大學梁立明教授、科技部中國科學技術(shù)發(fā)展戰(zhàn)略研究院武夷山研究員對本報告的支持與幫助。同時，向以不同形式對本報告提出意見和建議的專家學者們表示誠摯的感謝。